| 分散机类型：剪切分散机 | 物料类型：固-液 | 适用物料：化学品 |
| 品牌：IKN/依肯 | 应用领域：化工 | 型号：CMD2000 |
| 速度类别：无级变速 | 调速范围：0-14000r/min | 分散轮直径：55mm |
| 升降行程：0-100mm | 电机功率：2.2Kw | 产品类型：全新 |
| 变速方式：变频变速 | 速度范围：1200rpm以上 | 罐容量：0-1000L |
| 外形尺寸（长*宽*高）：450*350*750mm | 整机重量：45Kg | 规格：CMD2000/4 |
二氧化钛研磨分散机,二氧化钛分散机,纳米二氧化钛分散机,二氧化钛纳米分散机,化工研磨分散机
上海依肯段先生18018542795
二氧化钛适用十分广泛，如油漆、防晒霜和药片包衣。通常市场上都提供不同级别的粉末产品，但是实际使用时还会对细度提出新的要求。同时，这类粉体碰到液体时极易团聚，这就成为了二氧化钛的分散的一个难点。IKN系列混合分散设备为快速分散而设计，达到窄粒径分布，并防止结块。
IKN二氧化钛研磨分散机,二氧化钛分散机,纳米二氧化钛分散机用于二氧化钛分散和研磨的优点
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一、缩短工艺时间。IKN高剪切乳化分散设备可以迅速地混合分散二氧化钛粉末，并消除结块和团聚。IKN也提供PLD和PLG粉体/液体混合机，将粉体直接加入液体，无需循环处理，一次性通过便可成型。
二、提高品质。IKN高剪切混合机可以打碎结块粉体，并与液体充分混合。这样可以改善产品光泽和透明度，这两个特征由分散好坏直接决定。
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三、减少资金投入。IKN磨机可以更大程度缩小粒径，达到窄粒径分布。IKN分散研磨设备的流量比同类研磨设备高出很多，但也可达到相类似的效果。模块化设计的IKN 2000系列产品，可以帮助客户节约资金投资。
CMD2000系列二氧化钛研磨分散机,二氧化钛分散机,纳米二氧化钛分散设备是IKN（上海）公司经过研究刚刚研发出来的一款新型产品，该机特别适合于需要研磨分散乳化均质一步到位的物料。我们将三级高剪切均质乳化机进行改装，我们将三级变跟为一级，然后在乳化头上面加配了胶体磨磨头，使物料可以先经过胶体磨细化物料，然后再经过乳化机将物料分散乳化均质。胶体磨可根据物料要求进行更换（我们提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五种乳化头供客户选择）
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IKN研磨式分散机是由胶体磨,分散机组合而成的高科技产品。
***级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以***制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。
***级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子（乳化头）和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为 在对输送性的要求方面，特别要引起注意的是：在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是***转子齿的排列，还有一个很重要的区别是 不同工作头的几何学特征不一样。狭槽数、狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。
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CMD2000系列二氧化钛研磨分散机,二氧化钛分散机,纳米二氧化钛分散的特点
① 线速度很高，剪切间隙非常小，当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨
② 定转子被制成圆椎形，具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。
③ 定子可以***制的被调整到所需要的与转子之间的距离
④ 在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。
⑤ 高质量的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种要求。
CMD2000系列研磨分散设备选型表
型号 | 流量 L/H | 转速 rpm | 线速度 m/s | 功率 kw | 入/出口连接 DN |
CMD2000/4 | 300 | 9000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 |
CMD2000/5 | 1000 | 6000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
CMD2000/10 | 2000 | 4200 | 23 | 22 | DN80/DN65 |
CMD2000/20 | 5000 | 2850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
CMD2000/30 | 8000 | 1420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
CMD2000/50 | 15000 | 1100 | 23 | 110 | DN200/DN150 |
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